Transistor

半導体薄膜にレーザを照射すると結晶性が変化し,ガラスやプラスチックの基板の上に,高機能な薄膜トランジスタやLSIを作製することができます.
また酸化物系半導体材料にも注目し,酸化物半導体材料の信頼性解析や原子層堆積による低温でも高性能な薄膜トランジスタの作製に取り組んでいます.
このような手法を用いて,高性能情報端末の研究をしています.
Inorganic EL Transparent TFT
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2011年度研究報告

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高性能薄膜トランジスタに向けたIGZO薄膜の劣化解析 (2009)
原子層堆積(ALD)によるZnO-TFTにおける熱処理の効果 (2009)
新規構造シリコン薄膜基板を用いたレーザー結晶化と薄膜トランジスタへの応用 (2009)
グリーンレーザーを用いた積層シリコン薄膜の結晶化技術と3次元素子への応用 (2009)
走査型プローブ顕微鏡技術を用いた多結晶シリコン薄膜の局所電気特性評価 (2009)
非晶質IGZO薄膜トランジスタの熱処理雰囲気の検討 (2011)
グリーンレーザーアニールによるシリコン積層薄膜の同時結晶化技術に関する研究 (2011)