NAIST 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 ~光ナノサイエンス~

情報機能素子科学研究室のKulchaisit Chaiyanan 君がIDW’15国際会議でOutstanding Poster Paper Awardを受賞

2015年12月9日 – 11日に大津プリンスホテルにて開催されたIDW’15 (The 22th International Display Workshops) 国際会議において、情報機能素子科学研究室のKulchaisit Chaiyanan君(博士後期課程1年)が講演奨励賞を受賞しました。同賞は、アクティブマトリックスディスプレイ部門のポスター発表者(20名)の中から最優秀発表者の1名に贈られるものです。

Reliability Improvement of Amorphous InGaZnO Thin-Film

Transistors by Less Hydroxyl-Groups Siloxane Passivation

C.Kulchaisit, 石河泰明, 藤井茉美, 山崎はるか, J. P. Bermundo, 浦岡行治

Chaiyanan Kulchaisit, Yasuaki Ishikawa, Mami N. Fujii, Haruka Yamazaki, Juan Paolo Bermundo, Yukiharu Uraoka

 

First, I want to thank Information device science laboratory members especially Thin-film transistors group for helpful discussions.
I’m very proud of being selected as an International Display Workshop (IDW) 2015 Awardee. This is a great chance and honor for me. Thank you very much for having interest in my research. I hope this research will be impact and benefit for other research in the future.
I hope this award might inspire junior members at my laboratory to keep going their experiment well and to bring them good results.
Finally, I would like to express sincere gratitude to Prof. Yukiharu Uraoka, Associate Prof. Yasuaki Ishikawa, Assistant Prof. Mami Fujii, and Assistant Prof. Juan Paolo Bermundo for fruitful discussion and encouragement,leading me to the great success at the conference. I also would like to express my deep appreciation of Mr. Satoru Ishikawa and members from JSR Corporation.

本研究は,次世代のディスプレイを実現するための、酸化物薄膜トランジスタに関する研究である。酸化物は、低温形成可能、電気性能が高い、可視領域で透明など優れた特徴を有している。一方で、信頼性に対する課題が多く指摘されている。本研究では、高い信頼性を実現するために、シロキサンを用いたパッシベーション膜を提案した。その結果、シロキサンは、さまざまな環境において高い信頼性を有することを確認した。

 

情報機能素子科学研究室のホームページはこちらをご覧ください。

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