物性情報物理学研究室のリヴァルド マルセル トゥンベラカさん(D3)が、米国物理学会主催国際会議APS Global Summit 2026の優秀賞学生賞を受賞

受賞概要

2026年3月19日、物性情報物理学研究室のリヴァルド マルセル トゥンベラカさん(D3)が、米国デンバー市コロラドコンベンションセンターにて開催された米国物理学会主催国際会議APS Global Summit 2026の優秀賞学生賞を受賞しました。この国際会議は全参加者数1万4千名以上、大学院学生で5千5百名以上が参加したもので、約10名の学生が優秀賞学生賞を受賞しました。

研究題目・論文タイトル

Development of sub-nm roughness evaluation method using electron diffraction on HOPG
(HOPG上の電子回折を用いたサブナノメートル表面粗さ評価法の開発)

研究者・著者

R. M. Tumbelaka, T. Fujiwara, Y. Kitagawa, Y. Ida, Y. Kimoto, K. Matsue, A. N. Hattori, H. Momono, and K. Hattori

受賞対象となった研究の内容

Tumbelaka氏らは、反射高速電子回折法(RHEED)が、特に従来の原子間力顕微鏡(AFM)測定が困難な複雑な三次元表面に対して、サブナノメートル表面粗さを定量評価する有望な手法となる可能性を示した。サブナノメートルスケールの表面粗さを精密に評価することは、半導体製造、薄膜成長、ナノスケール材料工学などの先端技術において極めて重要である。

受賞者コメント

この度、APS Global Physics Summit 2026 において Distinguished Student Program Award を賜り、大変光栄に存じます。本国際会議では、自身の研究成果を発表するとともに、さまざまな分野の研究者の方々と交流する貴重な機会を得ることができ、私にとって非常に有意義で忘れがたい経験となりました。
本研究を遂行するにあたり、終始温かいご指導とご支援を賜りました服部賢准教授に心より感謝申し上げます。また、共同研究者の皆様、研究室の皆様、ならびに本会議への参加をご支援くださった J-PEAKS Grant Program に深く御礼申し上げます。皆様のご支援と励ましがなければ、このような栄誉ある賞をいただくことはできませんでした。
今回の受賞を励みに、今後も表面科学および電子回折に関する研究をさらに発展させ、次世代半導体・ナノ材料技術に貢献する高度ナノスケール評価技術の発展に尽力してまいります。

受賞年月日

2026年3月19日